Photomask Market Research Scope And Analysis

  • Report Code : TIPTE100000388
  • Category : Electronics and Semiconductor
  • No. of Pages : 150
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フォトマスク市場の範囲、レポート、2031年までの規模

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Photomask Market Report Scope

レポート属性詳細
2023年の市場規模49億3,000万米ドル
2031年までの市場規模71億4千万米ドル
世界の CAGR (2023 ~ 2031)4.7%
歴史的なデータ2021-2022
予測期間2024-2031
対象となるセグメントタイプ別
  • レチクル
  • マスターマスク
  • マスクのコピー
用途別
  • 半導体
  • IC
  • 離散
  • オプトエレクトロニクス
  • 表示装置
  • MEMS
  • その他
エンドユーザーの業種別
  • 半導体・IC
  • フラットパネルディスプレイ
対象となる地域と国北米
  • 私たち
  • カナダ
  • メキシコ
ヨーロッパ
  • イギリス
  • ドイツ
  • フランス
  • ロシア
  • イタリア
  • ヨーロッパの残りの部分
アジア太平洋地域
  • 中国
  • インド
  • 日本
  • オーストラリア
  • その他のアジア太平洋地域
南米と中央アメリカ
  • ブラジル
  • アルゼンチン
  • 南米および中米のその他の地域
中東とアフリカ
  • 南アフリカ
  • サウジアラビア
  • アラブ首長国連邦
  • 残りの中東およびアフリカ
市場リーダーと主要企業プロフィール
  • 株式会社アドバンス・リプロダクションズ
  • コンピュグラフィックス インターナショナル リミテッド
  • 大日本印刷株式会社
  • HOYA株式会社
  • LGイノテック株式会社
  • 日本フイルコン株式会社
  • フォトトロニクス株式会社
  • 株式会社エスケイエレクトロニクス
  • 台湾マスク株式会社(TMC)
  • 凸版印刷株式会社
  • サンプル PDF では、定性的および定量的な分析により、コンテンツの構造と情報の性質が紹介されています。

フォトマスク市場のニュースと最近の動向

フォトマスク市場は、重要な企業出版物、協会データ、データベースなどの一次および二次調査後の定性的および定量的データを収集することによって評価されます。以下は、フォトマスク市場の動向と戦略のリストです。

  • 凸版印刷は2024年2月、極紫外(EUV)リソグラフィーを用いた2ナノメートル(nm)ロジック半導体ノードに関する共同研究開発契約をIBMと締結したと発表した。この契約には、次世代半導体における高NA EUVフォトマスク開発能力も含まれています。 (出典:凸版印刷株式会社プレスリリース、2023年)
  • 大日本印刷株式会社は2023年12月、最先端のEUV(Extreme Ultra-Violet)リソグラフィーをサポートする3ナノメートル(10-9メートル)リソグラフィープロセスに対応したフォトマスク製造プロセスの開発に成功した。半導体製造。 (出典:大日本印刷株式会社プレスリリース、2023年)

フォトマスク市場レポートの対象範囲と成果物

「フォトマスク市場規模と予測(2021年から2031年)」レポートは、以下の分野をカバーする市場の詳細な分析を提供します。

  • 対象となるすべての主要市場セグメントの世界、地域、国レベルでの市場規模と予測
  • 市場の動向(推進要因、制約、主要な機会など)
  • 今後の主な動向
  • 詳細な PEST/ポーターの 5 つの力と SWOT 分析
  • 主要な市場動向、主要企業、規制、最近の市場動向をカバーする世界および地域の市場分析
  • 市場集中、ヒートマップ分析、主要プレーヤー、最近の動向を網羅した業界の状況と競争分析
  • 詳細な企業プロフィール