2031 年光掩模市场范围、细分市场和趋势
Photomask Market Report Scope
| 报告属性 | 细节 |
|---|---|
| 2023年市场规模 | 49.3亿美元 |
| 2031 年市场规模 | 71.4亿美元 |
| 全球复合年增长率（2023 - 2031） | 4.7％ |
| 历史数据 | 2021-2022 |
| 预测期 | 2024-2031 |
| 涵盖的细分市场 | 按类型
|
| 覆盖地区和国家 | 北美
|
| 市场领导者和主要公司简介 |
|
- 示例 PDF 通过定性和定量分析展示了内容结构和信息的性质。
光掩模市场新闻和最新动态
光掩模市场通过收集一手和二手研究后的定性和定量数据进行评估，其中包括重要的公司出版物、协会数据和数据库。以下是光掩模市场的发展和策略列表：
- 2024 年 2 月，凸版印刷有限公司宣布与 IBM 签订了一项联合研发协议，涉及使用极紫外 (EUV) 光刻技术的 2 纳米 (nm) 逻辑半导体节点。该协议还包括下一代半导体的高数值孔径 EUV 光掩模开发能力。 （来源：凸版印刷株式会社，新闻稿，2023 年）
- 2023 年 12 月，大日本印刷株式会社成功开发了一种光掩模制造工艺，该工艺可适应 3 纳米（10-9 米）光刻工艺，该工艺支持半导体制造的尖端工艺极紫外 (EUV) 光刻。（来源：大日本印刷株式会社，新闻稿，2023 年）
光掩模市场报告的覆盖范围和交付成果
《光掩模市场规模和预测（2021-2031）》报告对涵盖以下领域的市场进行了详细分析：
- 范围内所有主要细分市场的全球、区域和国家层面的市场规模和预测
- 市场动态，例如驱动因素、限制因素和关键机遇
- 未来主要趋势
- 详细的 PEST/波特五力分析和 SWOT 分析
- 全球和区域市场分析涵盖关键市场趋势、主要参与者、法规和最新市场发展
- 行业格局和竞争分析，涵盖市场集中度、热点图分析、知名参与者和最新发展
- 详细的公司简介
Get Free Sample For