Photomask Market Research Size And Share

  • Report Code : TIPTE100000388
  • Category : Electronics and Semiconductor
  • No. of Pages : 150
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2031 年光掩模市场规模和份额

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光掩模市场:战略洞察

光掩模市场

  • 复合年增长率(2023 - 2031)
    4.7%
  • 2023 年市场规模
    49.3 亿美元
  • 2031 年市场规模
    71.4 亿美元

市场

  • 扩大电子和汽车工业
  • 5G技术、人工智能和确保质量和精度的掩模检测技术等先进应用对高分辨率光掩模的需求不断增加
  • 光刻工艺不断创新

关键人物;主力;重要

  • 先进复制品公司
  • 康普国际有限公司
  • 大日本印刷株式会社
  • 豪雅公司
  • LG Innotek 有限公司
  • 日本菲尔康株式会社
  • 光电公司
  • SK电子有限公司
  • 台湾口罩股份有限公司 (TMC)
  • 凸版印刷株式会社

区域

  • 北美
  • 欧洲
  • 亚太
  • 南美洲和中美洲
  • 中东和非洲

市场

  • 十字线
  • 主面具
  • 复制蒙版
  • 半导体
  • 我知道了
  • 离散的
  • 光电
  • 显示装置
  • 微机电系统
  • 其他的
  • 半导体与集成电路
  • 平板显示器